高周波RF治療(オリジオKISS)
RF（高周波）
RF（Radio Frequency：高周波）治療は、皮膚の真皮層から皮下組織に熱エネルギーを与えることで、肌を引き締め、ハリを改善する治療です。
高周波による熱刺激で、コラーゲン線維の即時収縮、コラーゲン・エラスチンの再構築、肌のハリ・弾力の向上を促し、たるみ改善・小じわ改善が期待できます。
皮膚表面へのダメージが少なく、ダウンタイムが短い点も特徴です。
向いているお悩み
- 頬やフェイスラインのたるみ
- 口元のもたつき
- 肌のハリ低下
- 小じわ
RF×HIFU【オリジオKiss】
Oligio KISS（オリジオキス）は、RF（高周波）とHIFU（高密度焦点式超音波）を同時照射できるハイブリッド治療機器です。真皮浅層からSMAS層（筋膜層）まで作用し、表層の小じわ改善から深層リフトアップまでを1台で実現します。
オリジオ・オリジオXの上位互換機として設計され、従来機種よりも広範囲かつ多層的な治療が可能となりました。
もちろん、RFのみ、HIFUのみの治療も可能です。
東大阪市内でオリジオKissの施術をお受けいただけるのは、当院のみとなります。ご相談だけでも、どうぞお気軽にご来院くださいませ。
高周波（RF）とHIFUを組み合わせた治療
高周波（RF）は主に真皮層を中心に加熱し、コラーゲン生成を促進することで、肌のハリや弾力を高めます。
HIFUは超音波を真皮深層からSMAS層まで届け、たるみの引き締めにアプローチします。
これらを組み合わせることで、皮膚表面から深部までバランスよくケアします。
トリプルモード（RF）による多層照射
従来の
- Xモード（真皮下部）
- Gモード（真皮上部）
に加え、表皮〜真皮浅層を照射するTモードを搭載したトリプルモード設計です。
一度の施術で複数の層へアプローチでき、肌状態や目的に応じた施術が可能です。
各モードの特徴
- Tモード：表皮〜真皮浅層に作用し、肌のハリ、キメ、小じわ、肌質改善を目的とします
- Gモード：真皮上層を中心に照射し、軽度のたるみや小じわの改善を目指します
- Xモード：真皮下層へアプローチし、フェイスラインの引き締めや輪郭の改善を目的とします
施術直後からの引き締まりと経時的な変化
施術直後から引き締まりを感じることがあり、その後、数週間〜数か月かけてコラーゲン生成が進むことで、ハリや弾力の向上が期待されます。
痛み・ダウンタイムが少ない施術
冷却機能と安定したエネルギー制御により、痛みや肌への負担を抑えた施術が可能です。
施術後すぐにメイクや日常生活に戻ることができます。
肌状態に合わせたカスタマイズ治療
RF・HIFU・各モードの出力や照射部位を調整し、患者様一人ひとりの肌状態やお悩みに合わせた施術を行います。
